Главная — Каталог — Вакуумные установки для нанесения тонкопленочных покрытий — Установки для нанесения покрытий на объемные детали
Установки для нанесения покрытий на объемные детали
Серия: VNUK-4
Оформить заказ |
Вакуумная установка является достаточно универсальным устройством для нанесения тонкопленочных покрытий различного функционального назначения, в частности твердых нанокомпозитных. Установка включает следующие функциональные блоки:
Вакуумная камера изготовлена из нержавеющей стали в виде цилиндра с боковым проемом, закрываемым дверью и водоохлаждаемыми стенками. Технические параметры рабочей камеры:
Система безмасляной вакуумной откачки включает: форвакуумный спиральный насос с предельным давлением не более 5 Па; криогенный насос с сорбционной емкостью 2000 литров по аргону при 10-6мм.рт.ст., вакуумный затвор, систему клапанов, систему вакуумных трубопроводов и сильфонов Система замкнутого охлаждения обеспечивает охлаждение технологических источников и вакуумной камеры и включает 4 канала. В состав системы охлаждения входят: система распределения воды и трубопроводы, датчики протока и термореле, клапаны для обеспечения дистанционного включения охлаждения, теплообменник с воздушным охлаждением. В состав системы газораспределения входят: регуляторы расхода газа, клапаны и трубопроводы для распределения потоков рабочих газов в вакуумной камере. В вакуумной камере расположена система позиционирования образцов. Количество устанавливаемых на манипулятор образцов размером Ø 200 х 400 мм - 4 шт. Манипулятор имеет 12 гнезд для установки образцов размером Ø 80 х 400 мм. Система перемещения позволяет изменять скорость и направление вращения подложки, а также сканирование (перемещение вперед-назад) возле заданного технологического устройства с высокой точностью. В состав системы позиционирования входят: манипулятор, электромеханический привод, магнитная муфта ввода вращения, блок управления В вакуумной камере установлена система нагрева и контроля температуры. Система позволяет нагревать обрабатываемые образцы до температуры от 100 до 400 0С и поддерживать необходимую температуру в процессе нанесения покрытий с точностью ± 5 0С. Установка оснащена двумя несбалансированными магнетронными распылительными системами и двумя ионными источниками с замкнутым дрейфом электронов. Управление технологической установкой осуществляется от персонального компьютера в автоматическом или ручном режиме. |