Главная   —   Каталог   —   Магнетронные распылительные системы  —   Сбалансированные и несбалансированные круглые магнетроны для размещения внутри вакуумной камеры

Сбалансированные и несбалансированные круглые магнетроны для размещения внутри вакуумной камеры

Серия: APEL-МR-IN

Сбалансированные и несбалансированные круглые магнетроны для размещения внутри вакуумной камеры

Скачать документацию (451 кб)

Оформить заказ
 

Планарные магнетроны с круглым катодом используются при нанесении покрытий на небольшие подложки и в лабораторных исследованиях. Простота обращения, невысокая цена делают их удобным инструментом на стадии разработки технологий.

Внутреннее расположение магнетронов применяется в вакуумных камерах колпакового типа. Магнетрон может устанавливаться в любом месте вакуумной камеры, легко изменяется расстояние мишень-подложка. Недостатком такого магнетрона является  использование внутри вакуумной камеры диэлектрических трубопроводов охлаждения, а также необходимость дополнительных водяных и электрических вводов.

Конструкция магнетрона упрощенно приведена на рисунке.

Магнитная система магнетрона может быть выполнена как в сбалансированном, так и в несбалансированном вариантах.

Технические характеристики
Параметры Значение
Диаметр катода 75 мм 100 мм 125 мм
Толщина катода до 10 мм
Магнитная система постоянные магниты (SmCo, NdFeB) 
Магнитное поле на поверхности катода 350-600 Гс 
Тип охлаждения прямое/косвенное  
Коэффициент использования катода 30-45% 
Рабочие газы Ar, 02, N2 и т.д. 
Рабочее давление 0,1-1 Па 
Мощность распыления 1 кВт 1,5 кВт 2,5 кВт
Плотность ионного тока на подложку 0,01-1 мА/см2
Отношение потока атомов к потоку ионов на подложку 0,1-0,5