Главная — Каталог — Форвакуумные плазменные источники электронов для модификации поверхности диэлектрических материалов и синтеза диэлектрических покрытий.
Форвакуумные плазменные источники электронов для модификации поверхности диэлектрических материалов и синтеза диэлектрических покрытий.
Форвакуумные плазменные источники электронов обладают уникальной возможностью непосредственной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов (высокотемпературные керамики, стекла, бориды карбиды, полимеры и др.), а также синтеза диэлектрических покрытий в результате электронно-лучевого испарения этих материалов.
Область возможных применений: электронно-лучевой нагрев, плавка, сварка, пайка, спекание, фрезеровка диэлектрических изделий, синтез диэлектрических покрытий, генерация пучковой плазмы с концентрацией до 1012 см-3, и ее использование для модификации поверхностных свойств различных материалов.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ | |
|---|---|
| Параметры | Значение |
| Ускоряющее напряжение | до 20 кВ |
| Ток пучка | до 500 мА |
| Мощность пучка | до 10 кВт |
| Минимальный диаметр пучка | 0.5 мм |
| Плотность мощности | до 106 Вт/см2 |
| Давление рабочего газа | от 1 до 100 Па (7*10-3 - 0.7 Торр) |
| Рабочие газы |
Остаточная атмосфера, гелий, кислород, азот, аргон, криптон, ацетилен и др. |
| Охлаждение | Водяное |
