Скачать документацию (2616 кб)
Оформить заказ
|
|
Установка VNUK-6 предназначена для осаждения тонких пленок на полупроводниковых и диэлектрических подложках, которые используются в устройствах, основанных на технологии МЭМС.
Установка состоит из следующих основных узлов и систем:
- Рабочая камера в составе вакуумной камеры, манипулятора с приводом, экрана с приводом, плазмотрона, магнетронной распылительной системы, ионного источника и ИК-пирометра;
- Система вакуумной откачки;
- Система измерения давления;
- Система охлаждения;
- Система газораспределения и подачи жидких прекурсоров;
- Стойка с источниками питания магнетронной распылительной системы, ионного источника, смещения подложки, плазматрона;
- Шкаф системы электропитания и управления;
- Рабочее место оператора.
Система автоматизированного управления установкой обеспечивает:
- откачку вакуумной камеры в автоматическом и ручном режимах с отображением журнала событий;
- сканирование подложки возле заданных технологических устройств, изменение и поддержание скорости ее движения, фиксацию в заранее выбранном положении;
- управление выходными параметрами источников электропитания;
- напуск и распределение трех газов в требуемых соотношениях, а также автоматическое поддержание рабочего давления в диапазоне от 10-2 до 1 Па;
- программное выключение соответствующих устройств установки в случае аварийной ситуации;
- программное и ручное управление заслонками;
- управление процессом нанесения покрытий по программируемой оператором технологической карте.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
| Параметры |
Значение |
| Вакуумная камера |
| Размеры (ширина х высота х глубина), мм |
700 x 700 x 600 |
| Материал |
12Х18Н10Т |
| Остаточное давление, Па |
не более 10-3 |
| Стенки камеры |
водоохлаждаемые |
| Шторка-экран, шт. |
1 |
| Дистанционно-управляемые заслонки, шт. |
3 |
| Смотровое окно, шт. |
1 |
| Манипулятор |
| Максимальный размер образцов (диаметр х высота), мм |
200 x 20 |
| Количество образцов диаметром 200 мм, шт |
5 |
| Количество образцов диаметром 100 мм, шт |
10 |
| Контроль температуры образцов, оС |
50–400 |
| Система вакуумной откачки |
| Форвакуумный насос 2НВР250Д, шт. |
2 |
| Форвакуумный насос НВД-600, шт. |
1 |
| Диффузионный паромасляный насос НВ 400, шт. |
1 |
| Система измерения давления |
| Диапазон измеряемого давления, Па |
105–10-4 |
| Система газораспределения и подачи жидких прекурсоров |
| Количество каналов газонапуска, шт. |
3 |
| Максимальный расход газа, л/ч |
18 |
| Количество каналов подачи жидких прекурсоров, шт. |
1 |
| Максимальный расход жидких прекурсоров, мл/мин |
10 |
| Система охлаждения |
| Количество каналов, шт. |
8 |
| Магнетронная распылительная система |
| Диаметр катода, мм |
100 |
| Толщина катода, мм |
до 10 |
| Тип охлаждения |
прямое/косвенное |
| Рабочее давление, Па |
0,1–1 Па |
| Мощность разряда, кВт |
до 2 |
| Ионный источник с замкнутым дрейфом электронов |
| Диаметр эмитирующей щели, мм |
180 |
| Линейная плотность тока, мА/см |
до 1 |
| Рабочее напряжение, кВ |
до 5 |
| Рабочее давление, Па |
0,05–0,25 |
| Плазмотрон |
| Рабочее напряжение, В |
до 180 |
| Рабочий ток, А |
до 10 |
| Ток накала, А |
до 100 |
| Источники питания технологических устройств |
| Магнетрона APEL-M-5PDC-650-1, шт. |
1 |
| Ионного источника APEL-IS-3500, шт. |
1 |
| Смещения подложки APEL-SB-650-5, шт. |
1 |
|
Накала плазмотрона, шт.
Выходное напряжение холостого хода, В
Диапазон изменения выходного тока, А
|
1
30
10–100
|
|
Фокусирующей катушки плазматрона, шт.
Максимальное выходное напряжение, В
Диапазон изменения выходного тока, А
|
1
200
0,1–1
|
|
Несамостоятельного дугового разряда плазмотрона, шт.
Выходное напряжение холостого хода, В
Диапазон изменения выходного тока, А
Дискретность изменения выходного тока, А
|
1
180
1–10
0,1
|
|
