Главная   —   Каталог   —   Источники питания для магнетронного распыления импульсами высокой мощности  —   Сильноточное импульсное распыление + смещение подложки

Сильноточное импульсное распыление + смещение подложки

Серия: HIPIMS + SB

Сильноточное импульсное распыление + смещение подложки Оформить заказ
 

 

Смотрите также другие разделы, касающиеся сильноточного импульсного магнетронного распыления:

  • HIPIMS DU – источники питания для дуального сильноточного магнетронного распыления;
  • MPPMS –  серия источников питания, обеспечивающих модулированное магнетронное распыление импульсами высокой мощности;
  •  HIPIMS –  униполярные импульсные источники питания для сильноточного магнетронного распыления;
  • HIPIMS BP – источники питания, формирующие биполярные ассиметричные импульсы (положительные импульсы тока имеют небольшой амплитуды и предназначены для компенсирования зарядов в процессах реактивного магнетронного распыления);
  • HIPIMS+MF(DC) – система электропитания, совмещающая сильноточное импульсное магнетронное распыление с обычным распылением на постоянном токе или импульсным среднечастотным;
  • Комбинированные системы:  HIPIMS+MF+biasHIPIMS DU+SBHIPIMS DU+MF+SB.