Главная   —   Каталог   —   Источники питания для магнетронного распыления импульсами высокой мощности  —   Дуальное импульсное сильноточное магнетронное распыление

Дуальное импульсное сильноточное магнетронное распыление

Серия: HIPIMS DU

Дуальное импульсное сильноточное магнетронное распыление Оформить заказ
 

Для питания дуальных магнетронных распылительных систем, работающих в режиме сильноточного импульсного распыления, разработана серия импульсных источников APEL-HIPIMS DU. Как показано на рис. 1, в состав системы электропитания входит два сильноточных блока. Отрицательные выходы  блоков соединены с катодами магнетронной распылительной системы. Положительные выводы соединяются между собой. Общая точка блоков может быть посажена на землю или соединена с камерой. Конфигурация подключения общей точки оказывает влияние на работу системы и выбирается исходя из конкретных требований. 

Рис. 1. Схема сильноточного импульсного источника питания для дуальных магнетронных распылительных систем. 

Преимущество данной системы заключается в возможности независимой регулировки амплитуды и длительности выходных импульсов. Кроме того, возможна реализация различных режимов питания, которые рассматриваются далее.





Вы можете перейти в другие разделы, касающиеся сильноточного импульсного магнетронного распыления:
  • MPPMS –  серия источников питания, обеспечивающих модулированное магнетронное распыление импульсами высокой мощности
  • HIPIMS+MF+biasHIPIMS DU+SBHIPIMS DU+MF+SB - комбинированные систем сильноточного импульсного магнетронного распыления  
  • HIPIMS –  униполярные импульсные источники питания для сильноточного магнетронного распыления
  • HIPIMS BP – биполярные источники питания для сильноточного импульсного магнетронного распыления
  • HIPIMS+MF(DC) – комбинированная система электропитания, совмещающая сильноточное импульсное магнетронное распыление с обычным распылением на постоянном токе или импульсным среднечастотным
  • HIPIMS+SB – комбинация импульсного сильноточного магнетронного распыления с подачей потенциала смещения на подложку
  • Комбинированные систем сильноточного импульсного магнетронного распыления:  HIPIMS+MF+biasHIPIMS DU+SBHIPIMS DU+MF+SB